沒有多少人知道，由院長(zhǎng)鄧光輝院士和所長(zhǎng)錢富強(qiáng)研究員率領(lǐng)光源研究所的140多名研發(fā)人員，經(jīng)過近3年的潛心研究，在1999年7月就掌握了浸沒式光刻系統(tǒng)技術(shù)，研發(fā)成功全球第一臺(tái)65nm制程工藝的浸沒式光刻機(jī)試驗(yàn)機(jī)，避免刺激美國(guó)，秘而不宣，到去年6月17日才公開。
從1999年8月開始立項(xiàng)，BSEC投資1億元，鄧國(guó)輝和錢富強(qiáng)帶領(lǐng)光刻機(jī)光源研究所，靜下心來(lái)開始研發(fā)EUV的同時(shí)，在65nm制...